点源

点源蒸发源是一种用于物理气相沉积(PVD)过程的关键设备,通过局部加热使材料从点状源蒸发,并在基片上形成薄膜。这种蒸发源以其高精度和可控性著称,广泛应用于需要精细涂层的工业领域。其设计通常基于电子束或电阻加热原理,确保蒸发过程稳定且高效。

特性

  • 稳定性好:采用高质量材料和精密控制电路,确保在长时间运行中蒸发速率和温度保持稳定,减少工艺波动。
  • 均匀性好:点源设计允许精确控制蒸发角度和分布,从而实现薄膜厚度的高度均匀性,适合高要求的涂层应用。
  • 材料利用率高:蒸发源优化了材料加热区域,减少浪费,通常材料利用率可达80%以上,降低生产成本。
  • 兼容性强:支持多种材料蒸发,包括金属、合金和化合物,适应不同工艺需求。

参数

性能 单位 数值
蒸发速率 Å/s 0.1–10(可调)
功率范围 W 100–5000
温度控制精度 °C ±1
材料兼容性 / Al,Ag,Mg,Yb,Cu,In,Ga等
真空要求 mbar 基压≤1×10⁻⁶
寿命 / >1000小时(取决于材料和用法)

应用领域解决方案

点源蒸发源广泛应用于OLED蒸镀、CIGS薄膜蒸镀、钙钛矿蒸镀、以及科研领域的薄膜沉积实验。其高精度特性使其特别适合需要纳米级控制的应用。

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