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VGF 坩埚

一、产品概述
VGF坩埚是应用于垂直梯度凝固法(VGF)技术中的一类坩埚。目前,VGF技术作为单晶生长的热门技术,是微光电子和半导体产业生长GaAs单晶和InP单晶的良好选择。
二、主要特点:
1.可制作大规格坩埚(最大直径8inch,最大高度18inch);
2.纯度>99.99%
3.使用次数多(具有优异的层间结构);
三、产品应用
应用于原位合成GaAs、InP等半导体单晶。

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